高純臭氧提供系統
 

1.工作條件：

工作溫度和濕度：工作溫度低于32攝氏度，對濕度無要求。

電力要求：要求抗振動，抗干擾。

場地要求：需要不大于8平方米的空間。

 

2.  設備用途：

2.1 擬購的高純臭氧提供系統作為氧化物分子束外延系統和激光分子束外延系統的重要組成部分，用于為氧化物分子束外延系統和激光分子束外延系統提供高活性氧來源。
 

3.  技術規格：

3.1 臭氧發生和存儲系統

3.1.1 配備臭氧發生器，輸入電壓220V/50Hz。

3.1.2優先考慮臭氧發生裝置單次 很大供氣量大于2g的投標。

3.1.3 具有束流控制系統。

3.1.4具有臭氧泄漏檢測系統。

*3.1.5氣路采用耐臭氧材質，系統漏率好于1.0E-8 mbar•L/s。

3.1.6優先考慮冷卻系統用液氮容器，且帶有透視窗口的投標。

3.1.7優先考慮冷凝器內置壓力探測器及爆炸監測裝置的投標。

 

3.2. 臭氧注入系統

*3.2.1與真空設備生長腔兼容。

*3.2.2臭氧供氣的氣壓范圍：1.0×10-6 Torr ~ 1 Torr；（主腔體積不大于10L，分子泵與主腔之間配有閥門，分子泵抽速大于300L/s的情況）

*3.2.3臭氧供氣的氣壓調節精度：5×10-7 Torr；（主腔體積不大于10L，分子泵與主腔之間配有閥門，分子泵抽速大于300L/s的情況）

3.2.4 定制主腔內真空轉接配件與閥門

 

3.3 控制系統

3.3.1具有控制系統用于過程控制。

3.3.2控制系統具有人機操作界面，操作方便可靠。

 

4.  產品配置要求：

4.1 高純臭氧提供裝置主體    1臺

4.2 備件

4.2.1  1/2 VCR墊片 10個

4.2.2  1/4 VCR墊片

4.2.3  KF25卡箍及中心圈  2套

4.3 其它附屬設備  需用戶準備nXDS10iC或者nXDS6iC抗腐蝕干泵。

如您對此產品感興趣，歡迎咨詢北京同林在線工程師。